Ätzmaske

ABGLEICHKONTROLLE EINER ÄTZMASKE FÜR EIN TRANSISTORGATE

CONTROL TRIMMING OF HARD MASK FOR TRANSISTOR GATE

Dabei weisen sowohl die Ätzmaske als auch die entstehenden Öffnungen die gewünschte Kontaktbreite 309 auf.

Both the etching mask and the openings have the desired contact width .

Im Allgemeinen muss es sich um Schichten handeln, die als Ätzmaske für anisotropes Siliziumätzen geeignet sind.

In general, they must be layers which are suitable to act as an etching mask for anisotropic silicon etching.