etching mask

The etch masking located on the wafer front surface is not illustrated in this figure.

Die auf der Wafervorderseite 7 befindliche Ätzmaskierung ist in dieser Figur nicht dargestellt.

The greater etch rate of the masking protective oxide layer is achieved in the present invention by using CVD-oxide deposition.

Unter diesen Bedingungen werden besonders glatte Silizidränder erreicht.

Microcircuits, microchips manufacturing requires, hygroscopic polymers called photo resists to mask circuit lines for etching processes.

Die Herstellung von Mikroschaltkreisen, Mikrochips erfordert hygroskopische Polymere, genannt Fotolacke, um Leiterbahnen für Ätzprozesse zu maskieren.

Instead of this, a mesa can be etched into the substrate upon employment of this mask after the application and structuring of the mask.

Es kann auch statt dessen nach dem Aufbringen und Strukturieren der Maske eine Mesa unter Verwendung dieser Maske in das Substrat geätzt werden.